در فرآیند تولید، مرحله پختن، عاملی کلیدی برای تعیین بازدهی است. تغییر ۲ درجه سانتیگراد در دمای پخت، میتواند ابعاد مهم قطعات را تغییر دهد؛ همچنین، وجود ذراتی در حین گرم کردن میتواند باعث خرابی قطعات شود. ما سیستمی طراحی کردهایم تا این نوسانات را از بین ببرد.
از نظر فنی، چه چیزی اهمیت دارد؟ ما یکنواختی دمایی روی سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکنیم؛ بنابراین، هر نقطه از سطح ویفر، یک شرایط حرارتی یکسان خواهد داشت. این سیستم در اتاقهای تمیز درجه ۱ تا ۱۰۰ نیز کار میکند، بدون اینکه باعث افزایش تعداد ذرات شود؛ همچنین، در لحظه تولید حرارت، هیچ ذرهای تولید نمیشود. تکرارپذیری دما نیز در محدوده ±۰.۲ درجه سانتیگراد است؛ این امر باعث پیشبینیپذیری فرآیند لیتوگرافی میشود. این سیستم از عناصر مادون قرمز برای کنترل سریع دما استفاده میکند؛ همچنین، منطقه گرم، به گونهای طراحی شده که میزان گازهای تولید شده کم باشد؛ بنابراین، سلامت فوتورزست حفظ میشود.
دلیل موفقیت این سیستم در فرآیند لیتوگرافی این است: پخت نرم، به منظور حذف حلالها و کنترل تنشهای روی لایههای موجود است؛ پخت سخت نیز، به منظور تقویت چسبندگی و مقاومت در برابر اسیدها است. کنترل دقیق این دو فرآیند، منجر به تولید قطعاتی با کیفیت بالا، کمترین تعداد نقص، و بازدهی بالاتر میشود. همچنین، این سیستم باعث کاهش مصرف انرژی میشود؛ دستگاههای ما بیش از ۵٬۰۰۰ ساعت کار کردهاند، بدون اینکه بازدهی آنها کمتر از ۵٪ شود. نتیجه، کنترل یکنواخت عرض خطوط تولید و کاهش مقدار مواد اضافی است.
چند نکته عملی: نصب این سیستم نیازمند تطبیق پروفایل حرارتی با ساختار خاص دستگاههای مربوطه است؛ همچنین، باید از سازگاری سیستمهای تهویه و سیستمهای خنککننده نیز اطمینان حاصل شود. انتظار داشته باشید که زمان راهاندازی سیستم کوتاه باشد؛ پس از آن، سیستم میتواند ۲۴ ساعته کار کند؛ اما باید جریان هوا در اتاق تمیز پایدار باشد؛ زیرا تغییرات در جریان هوا میتواند باعث اختلالات کوچک در لبههای ویفر شود.