Di area pengolahan wafer, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan sudah cukup untuk menciptakan defek pada lapisan fotoresist. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara seragam, maka bukan hanya waktu yang terbuang, tetapi juga keseluruhan produk yang dihasilkan menjadi tidak berkualitas. Element pemanas harus bekerja dengan baik, dari shift ke shift, jam demi jam.
Apa yang penting dalam sistem ini? Kami membuat lampu pemanas berbasis air murni yang menggunakan emisi inframerah berfrekuensi pendek yang dikendalikan secara tepat. Lampu ini ditempatkan di dalam wadah kuarz yang memenuhi standar ruang bersih kelas 1–100. Dengan demikian, suhu di permukaan wafer dapat dikontrol pada rentang ±0,1°C. Tidak ada partikel yang terbentuk, dan tidak ada gas yang keluar yang dapat merusak lapisan fotoresist. Kepadatan daya lampu disesuaikan agar respons termalnya cepat; sehingga suhu tetap stabil dalam beberapa detik setelah pintu dibuka atau ditutup. Tubuh lampu menggunakan sistem sirkulasi air murni untuk menghilangkan panas secara efektif, sehingga suhu wafer tetap stabil dan profil ruang pengolahan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya.
Mengapa lampu ini cocok digunakan dalam proses litografi? Dalam proses litografi, tingkat repetibilitas sangatlah penting. Lampu ini menjaga suhu pemanasan tetap stabil, sehingga variasi lebar garis pada wafer dapat dikurangi, sehingga kualitas produk pun meningkat. Lampu ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dengan umur pakai lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan kualitas produksi kurang dari 5%. Dengan demikian, tidak diperlukan banyak suku cadang, dan waktu pemeliharaannya juga lebih singkat. Konsumsi energi lampu disesuaikan dengan kebutuhan proses, sehingga biaya operasional dapat dikurangi tanpa mengorbankan kontrol atas proses pemanasan.
Apa yang perlu dipertimbangkan? Lampu ini dapat digunakan dalam sistem pemanasan yang sudah ada, karena memiliki ukuran yang kompak serta antarmuka fluida/kelistrikan yang standar. Namun, diperlukan sistem sirkulasi air murni yang memenuhi standar tertentu, termasuk kontrol kemurnian air dan partikel. Jika air deionisasi digunakan pada suhu yang lebih rendah dari batas yang ditentukan, maka bisa terbentuk gelembung mikro. Oleh karena itu, dibutuhkan aliran dan tekanan air yang sesuai agar lampu tetap stabil secara termal. Setelah sistem sirkulasi air diset up dengan benar, lampu akan berfungsi seperti variabel proses yang stabil, sehingga tidak menimbulkan masalah pemeliharaan.