Di lantai produksi, perubahan suhu sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk mengganggu keseragaman kualitas bahan fotoresist. Akibatnya, proses produksi akan terhenti, dan tingkat keberhasilan produksi pun menurun. Kami menciptakan pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ini, sehingga perubahan suhu tidak terjadi sama sekali.
Apa yang penting dalam desain pemanas ini?
Kami merancang pemanas ini agar mampu mencapai keseragaman suhu sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan chuck. Pemanas ini juga memiliki kemampuan kontrol suhu yang cepat, sehingga panas yang dihasilkan tidak melebihi batas yang ditentukan. Emitter pemanas menggunakan gelombang inframerah pendek untuk mengeluarkan energi secara cepat dan efektif. Selain itu, ruang produksi harus memenuhi standar cleanroom kelas 1–100, sehingga jumlah partikel di udara tetap nol selama proses pemanasan dan degassing berlangsung. Repeatabilitas suhu tetap tinggi dari siklus ke siklus, sehingga profil pemanasan yang kritis tetap stabil, meskipun ada fluktuasi suhu lingkungan atau perubahan komposisi bahan baku.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi?
Dalam persiapan proses litografi, keseragaman suhu ini sangat penting agar proses pemanasan berjalan dengan baik, kontrol ketebalan lapisan fotoresist menjadi lebih akurat, dan jumlah bahan yang perlu dikerjakan ulang berkurang. Respons cepat pemanas inframerah mempersingkat waktu pemanasan, sehingga waktu total proses produksi dapat dikurangi. Energi yang digunakan juga berkurang, karena panas hanya dihasilkan sesuai kebutuhan, bukan disimpan dalam bentuk massa panas yang besar. Perangkat ini dirancang untuk beroperasi 24/7, dengan interval pemeliharaan yang terencana, sehingga waktu henti yang tidak terduga tidak akan mengganggu proses produksi.
Apa yang perlu dipersiapkan?
Pemanas ini mudah diintegrasikan ke dalam sistem produksi, tetapi membutuhkan tegangan yang stabil serta sistem pendinginan yang sesuai dengan kapasitas kerja yang ditentukan. Butuh waktu singkat untuk menyetel parameter pemanasan agar sesuai dengan kebutuhan bahan fotoresist dan substrat yang digunakan. Setelah itu, proses produksi akan berjalan secara stabil, bahkan ketika volume produksi meningkat.