Di bilik pemprosesan wafer, perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseragaman lapisan photoresist. Proses pengeluaran akan terhenti, dan kadar pengeluaran akan menurun. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk mengelakkan perubahan suhu tersebut sebelum ia berlaku.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami mereka bentuk pemanas ini agar suhu kekal stabil pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Kawalan suhu yang cepat membantu mengelakkan peningkatan suhu yang berlebihan pada lapisan photoresist. Pemanas ini menggunakan sinar inframerah gelombang pendek untuk memindahkan tenaga dengan cepat. Bilik pemprosesan pula dilengkapi dengan sistem yang sesuai untuk tahap kebersihan Class 1–100, sehingga penghasilan partikel dapat dikurangkan kepada sifar semasa proses pemanggangan dan penyingkiran gas. Ketepatan suhu dapat dipertahankan dari satu kitaran ke kitaran yang lain, supaya profil suhu yang diperlukan tidak berubah walaupun terdapat perubahan suhu persekitaran atau campuran bahan.
Mengapa ini penting dalam proses litografi
Dalam persiapan proses litografi, keseragaman suhu ini memastikan proses pemanggangan berjalan dengan baik, serta memudahkan kawalan ketepatan ukuran cakera magnetik. Respons cepat pemanas inframerah membantu memendekkan masa pemanggangan, sekali gus mengurangkan masa keseluruhan proses. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba disalurkan hanya bila diperlukan, bukannya disimpan dalam jumlah yang banyak. Peralatan ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan jadual penyelenggaraan yang tetap, agar tiada gangguan yang tidak dijangka berlaku semasa proses pengeluaran.
Apa yang perlu dipertimbangkan
Pemanas ini boleh digabungkan dengan lancar, tetapi ia memerlukan voltan yang stabil serta sistem penyejukan yang sesuai dengan beban kerja yang ditetapkan. Anda perlu meluangkan masa yang singkat untuk menyesuaikan parameter pemanasan agar sesuai dengan jenis wafer yang digunakan. Setelah itu, proses pengeluaran akan berjalan dengan lancar, walaupun jumlah wafer yang diproses bertambah.