Lamp voor het verwarmen van ultrazuiver water

Wed, 17 Jun 2026 11:48:13 +0800

Op de productieafdeling is een verschil van 0,5°C tijdens het zachte bakproces al voldoende om een verborgen defect in de fotoresist te veroorzaken. En als de temperatuur tijdens het harde bakproces niet gelijkmatig is, verlies je niet alleen tijd, maar ook de hele productiepartij. De verwarmingselementen moeten dus continu hun werk doen, shift na shift, uur na uur.

Wat belangrijk is achter de schermen We hebben de lamp voor het verhitten van ultraschoon water ontworpen met behulp van gecontroleerde kortegolf-infraroodstraling. De lamp zit in een kwartsomhulsel dat geschikt is voor gebruik in een zuiverruimte van klasse 1–100. Hierdoor is er een thermische uniformiteit op het oppervlak van de wafer van ±0,1°C. Er worden geen deeltjes gegenereerd en er vindt geen uitwaseming plaats die de fotoresist kan bevuilen. De vermogensdichtheid van de lamp is zo ingesteld dat er snel op temperatuursveranderingen kan worden gereageerd: de setpoint komt binnen enkele seconden terug naar zijn oorspronkelijke waarde nadat de deur wordt geopend of gesloten. Het lichaam van de lamp maakt gebruik van een circulatieysteem met ultraschoon water, zodat de warmte effectief kan worden afgevoerd. Dit beschermt het thermische evenwicht van de wafer en zorgt ervoor dat de condities in de kamer consistent blijven, batch na batch.

Ultra on Cozy Corner Infrared Heating

Lamp voor het verwarmen van ultrazuiver water