<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Технічні Дані on Cozy Corner Infrared Heating</title>
		<link>http://warm-heater-corner-ir.com/uk/tags/%D1%82%D0%B5%D1%85%D0%BD%D1%96%D1%87%D0%BD%D1%96-%D0%B4%D0%B0%D0%BD%D1%96/</link>
		<description>Recent content in Технічні Дані on Cozy Corner Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 01:50:09 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-heater-corner-ir.com/uk/tags/%D1%82%D0%B5%D1%85%D0%BD%D1%96%D1%87%D0%BD%D1%96-%D0%B4%D0%B0%D0%BD%D1%96/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Технічна підтримка щодо нагрівання пластин</title>
				<link>http://warm-heater-corner-ir.com/uk/posts/technical-support-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 01:50:09 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-heater-corner-ir.com/uk/posts/technical-support-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-heater-corner-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Технічна підтримка щодо нагрівання пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії саме на етапі випалювання залежить якість продукції. Зміна температури на 2°C під час м’якого чи жорсткого випалювання може призвести до зміни критичних розмірів деталей. Одна-два частинки, які утворюються під час нагрівання, можуть пошкодити поверхню деталі. Ми створили спеціальну систему для нагріву пластин, щоб усунути таку нестабільність.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми підтримуємо температурну однорідність на рівні ±0,1°C по всій поверхні пластини, щоб кожна ділянка отримувала однаковий рівень теплового навантаження. Система працює у чистих залих класу 1–100 без значного збільшення кількості частинок. На етапі нагрівання не утворюється жодних частинок. Повторюваність температури залишається в межах ±0,2°C, що забезпечує передбачуваність процесу літографії. Для швидкого та контрольованого нагрівання використовуються елементи короткохвильового інфрачервоного випромінювання. Крім того, система розроблена так, щоб мінімізувати вивільнення газів, що дозволяє зберегти цілісність фоторезисту.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
