Di bilik pengeluaran, prestasi proses pembakaran bahan fotorezistan tidak boleh dipertikaikan lagi—ia diukur dalam unit nanometer. Sebarang perubahan suhu sebanyak 0.5°C saja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi yang tepat, dan ini akan menyebabkan banyak wafer menjadi rosak. Pelindung berbahan kaca kuarsa pada lampu tersebut bertujuan untuk mencegah perubahan suhu tersebut daripada berlaku sama sekali.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan kaca kuarsa berkualiti tinggi sebagai bahan pelindung, kerana ia mampu mengekalkan transmisi cahaya yang stabil pada gelombang inframerah pendek dan sederhana. Selain itu, kaca ini tidak akan mengalami perubahan saiz yang ketara walaupun terdedah kepada suhu yang tinggi. Ini membolehkan proses pemanasan wafer dilakukan dengan tepat, dengan variasi suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan yang diproses. Dengan cara ini, profil pemanasan yang digunakan akan kekal konsisten dari masa ke masa. Di bilik bersih kelas 1–100, bahan dan reka bentuk pelindung ini direka agar tidak menghasilkan sebarang zarah debu, sehingga jumlah kecacatan pada wafer dapat dikurangkan, dan laporan mengenai produktiviti juga akan lebih baik.
Mengapa ia berkesan dalam proses litografi
Proses litografi sangat bergantung pada kawalan suhu. Pelindung ini membantu mengekalkan keluaran cahaya lampu yang stabil, mengurangkan kawasan yang terlalu panas, serta menghalang bahan sampingan daripada terkumpul di sekeliling lampu. Dengan ini, parameter yang digunakan untuk proses pemanasan akan tetap sama. Hasilnya, pengulangan proses menjadi lebih sedikit, bahan buangan berkurangan, dan masa henti operasi juga berkurangan. Selain itu, tenaga yang digunakan juga tidak dibazirkan, kerana haba akan tetap berada di tempat yang sepatutnya. Ini membolehkan lampu digunakan untuk jangka waktu yang lebih lama, dan masa penggantian lampu juga dapat diramalkan dengan lebih tepat.
Apa yang perlu diperhatikan
Pemasangan pelindung ini agak mudah, tetapi penyesuaian kedudukannya perlu dilakukan dengan teliti. Pelindung ini perlu dipasang pada kedudukan yang ditentukan tanpa sebarang kesilapan; walaupun sedikit saja kesilapan boleh menyebabkan masalah pada proses pemanasan. Walaupun julat operasinya luas, pelindung ini tidak sesuai untuk digunakan semasa proses pembersihan menggunakan cecair. Ikuti prosedur pembersihan yang disyorkan dan lakukan penyelenggaraan rutin, agar prestasi pelindung ini dapat dikekalkan, serta memastikan bilik bersih tetap memenuhi standard yang ditetapkan.