Op een lijn van 300 mm is een afwijking van half graden Celsius tijdens het verhitten van de fotoresistent al voldoende om de kritieke afmetingen te beïnvloeden en zo een hele productielijn te verwoesten. We hebben een verwarmingselement gemaakt van koolstofnanobuisjes, zodat het thermische gedrag constant blijft, batch na batch, zonder uitzonderingen.
Wat belangrijk is onder de motorkap Het verwarmingselement werkt op basis van koolstofnanobuisjes, waardoor het snel reageert en stabiel blijft. Hierdoor wordt er een uniformiteit van ±0,1°C behaald over de hele oppervlakte van de wafer. Dit zorgt voor consistente resultaten, batch na batch. Bovendien wordt er nauwelijks gas vrijgegeven, waardoor het kan worden gebruikt in schoonruimtes van klasse 1–100. De materialen zijn ook zo gekozen dat er nauwelijks gas vrijkomt, zelfs tijdens continue verhittingscycli. In feite betekent dit minder defecten, betere controle over de afmetingen en een betrouwbaar thermisch budget.
Waarom dit belangrijk is in de lithografie In de lithografie en verwerking van fotoresistenten is het thermische profiel geen secundair aspect – het is juist het cruciale onderdeel van het proces. Dit verwarmingselement zorgt ervoor dat de afmetingen van de lijnen, de hoeken van de zijwanden en de dikte van de laag die overblijft binnen de vereiste grenzen blijven. Hierdoor hoeft men geen goede wafers weg te gooien voor herverwerking.
Het apparaat kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstand. Uit onderzoek blijkt dat er geen merkbare afwijkingen optreden na lange tijdsspannen. Dit is precies wat nodig is voor grote productieschaal. Omdat het apparaat snel reageert, neemt de tijd die nodig is om het apparaat op temperatuur te brengen af, waardoor de kosten per wafer lager worden.
Wat je moet doen De integratie van het apparaat is eenvoudig, maar het koolstofnanobuisje-element heeft strenge temperatuurbepalingen en gecontroleerde verhogingssnelheden. Je moet de thermische massa van het apparaat goed inschatten en de controller instellen om de gewenste uniformiteit te bereiken. Plan eerst een kort testproces om de PID-instellingen te optimaliseren en te controleren of het profiel over alle processomstandigheden heen consistent is.