Üretim alanında, pişirme işlemi, ürün kalitesinin belirlendiği kritik bir adımdır. Yumuşak veya sert pişirme sırasında meydana gelen 2°C’lik değişiklikler, ürünün boyutlarını etkileyebilir. Ayrıca, ısıtma sırasında ortaya çıkan küçük parçacıklar bile ürünün bozulmasına neden olabilir. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için wafer ısıtma sistemini geliştirdik.
Teknik açıdan önemli olanlar:
Waferin her noktasında sıcaklık uniformluğunu ±0,1°C civarında tutuyoruz; böylece her bölge aynı sıcaklığı alır. Bu sistem, Clas 1–100 düzeyindeki temiz odalarda kullanılabilir ve parçacık sayısını artırmaz. Ayrıca, ısıtma sırasında hiçbir parçacık üretilmez. Sıcaklık tekrarlanabilirliği ise ±0,2°C arasında kalır; bu da litografide istikrarlı sonuçların elde edilmesini sağlar. Tasarım, hızlı ve kontrollü ısı artışları için kısa dalga boylu kızılötesi elemanlar kullanır. Ayrıca, sıcak bölgenin tasarımı, fotorezistin bütünlüğünün korunmasını sağlar.
Bu sistemin litografi işlemlerinde nasıl işe yaradığı şöyledir: Yumuşak pişirme işlemi, çözücülerin uzaklaştırılması ve filmin stresinin kontrol edilmesiyle ilgilidir. Sert pişirme işlemi ise yapışma özelliğini ve aşındırma direncini belirler. Her iki işlemin de sıkı bir şekilde kontrol edilmesi, daha stabil ürünlerin elde edilmesini ve daha az kusurun oluşmasını sağlar. Ayrıca, verimliliği yüksek ısı yönetimi sayesinde daha az enerji tüketilir ve bakım gereksinimleri azalır. Ünitelerimiz 5.000 saatten fazla çalışmış olup, verimlilik kaybı %5’in altındadır. Bunun sonucunda ise tutarlı hat genişliği kontrolü ve daha az atık elde edilmektedir.
Birkaç pratik not: Kurulum sırasında, ısı profilinin cihazın geometrisine uygun hale getirilmesi ve egzoz/soğutma sistemlerinin uyumluluğunun kontrol edilmesi gerekmektedir. Fotorezist tabakasının ısı artış hızını ve diğer parametrelerini ayarlamak için kısa bir kurulum süresi gereklidir. Bir kez ayarlandıktan sonra sistem 24/7 çalışabilir; ancak temiz odanın hava akışının sabit tutulması önemlidir. Laminar akıştaki değişiklikler, waferin kenarlarında küçük sapmalara neden olabilir.