Di fasilitas produksi, tahap pemanasan merupakan faktor penentu keberhasilan proses produksi. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan dapat mempengaruhi dimensi-dimensi penting dari wafer tersebut. Partikel-partikel yang terbentuk selama proses pemanasan juga bisa merusak wafer tersebut. Kami merancang alat pendukung pemanasan wafer untuk mengurangi variabilitas tersebut.
Yang penting secara teknis: Kami mempertahankan keseragaman suhu pada tingkat wafer sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, sehingga setiap bagian wafer mendapatkan kondisi termal yang sama. Alat ini dapat beroperasi di ruang bersih kelas 1–100 tanpa menimbulkan peningkatan jumlah partikel. Suhu yang dihasilkan tetap stabil dalam kisaran ±0,2°C, sehingga proses litografi menjadi lebih terprediksi. Desain alat ini menggunakan elemen inframerah gelombang pendek untuk mencapai laju pemanasan yang cepat dan terkendali. Zona pemanasan dirancang agar tidak menimbulkan emisi gas berlebih, sehingga integritas lapisan fotoresisten tetap terjaga.
Inilah alasannya mengapa alat ini efektif digunakan dalam proses litografi. Proses pemanasan jenis “soft bake” bertujuan untuk menghilangkan pelarut dan mengontrol tegangan pada lapisan film. Sedangkan proses pemanasan jenis “hard bake” bertujuan untuk meningkatkan daya rekat dan ketahanan lapisan film terhadap proses pengikisan. Kontrol yang ketat atas kedua proses ini akan menghasilkan hasil yang lebih stabil, dengan sedikit sekali cacat, dan tingkat keberhasilan produksi yang lebih tinggi. Proses produksi pun menjadi lebih cepat, penggunaan energi lebih rendah berkat sistem penghubung termal yang efisien, serta waktu perbaikan yang lebih singkat. Unit-alat kami telah beroperasi lebih dari 5.000 jam dengan penurunan hasil produksi kurang dari 5%. Keuntungannya adalah kontrol ketebalan garis yang lebih baik, serta pengurangan limbah produk yang tidak berkualitas.
Beberapa hal praktis yang perlu diperhatikan: Saat memasang alat ini, perlu disesuaikan profil termalnya sesuai dengan geometri ruang pendingin dan sistem pengeringnya. Perlu juga dipastikan bahwa sistem exhaust dan sistem pendinginnya kompatibel. Waktu penyetelan awal alat ini cukup singkat. Setelah disetel dengan benar, alat ini dapat beroperasi 24/7. Namun, perlu dipastikan bahwa aliran udara di ruang bersih tetap stabil, karena perubahan aliran udara dapat menyebabkan gangguan kecil pada tepi wafer.