Di bahagian penghasilan wafer, langkah pemanggangan merupakan faktor penentu kejayaan proses tersebut. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanggangan akan mengubah dimensi penting wafer tersebut. Selain itu, zarah-zarah yang terbentuk semasa proses pemanasan boleh merosakkan wafer tersebut. Kami telah mencipta sistem sokongan pemanasan wafer untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer pada tahap ±0.1°C, supaya setiap bahagian wafer mendapat suhu yang sama. Sistem ini berfungsi dalam bilik bersih kelas 1–100 tanpa meningkatkan jumlah zarah di udara. Pada titik pemanasan, tiada zarah yang terbentuk. Kepastian suhu kekal pada tahap ±0.2°C antara setiap sesi pemanasan, sekali gus memastikan proses litografi berjalan dengan baik. Reka bentuk ini menggunakan elemen inframerah untuk memastikan kadar pemanasan yang cepat dan terkawal. Zon pemanasan dibina sedemikian rupa agar pengeluaran gas berkurangan, sekaligus memastikan integriti bahan fotorezist tidak terjejas.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini berguna dalam proses litografi. Proses pemanggangan lembut bertujuan untuk menghilangkan pelarut dan mengurus tekanan pada lapisan bahan fotorezist; manakala proses pemangganan keras pula bertujuan untuk meningkatkan daya melekat dan ketahanan bahan fotorezist terhadap proses pengikisan. Pengawalan yang ketat terhadap kedua-dua proses ini akan membawa kepada hasil yang lebih stabil, kurangnya kecacatan, dan kadar kejayaan yang lebih tinggi. Anda juga dapat mempercepatkan proses pengeluaran tanpa perlu menunggu lama, serta mengurangkan penggunaan tenaga kerana adanya sistem penghubung haba yang efisien. Unit-unit ini telah beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%. Kelebihannya ialah kawalan ketebalan garisan yang lebih tepat dan pengurangan sisa produk.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diambil kira: Semasa pemasangan, perlu pastikan profil haba sesuai dengan geometri ruang pematangan wafer tersebut, serta pastikan sistem pengudaraan dan sistem penyejukan berfungsi dengan baik. Proses penyesuaian kadar pemanasan memerlukan masa yang singkat. Setelah diselaraskan, sistem ini boleh beroperasi 24/7. Namun, pastikan aliran udara di bilik bersih tetap stabil, kerana perubahan aliran udara boleh menyebabkan perubahan kecil pada tepi wafer.