Di bilik proses litografi, anda akan belajar dengan cepat bahawa suhu bukanlah sesuatu yang remeh – ia merupakan faktor penting dalam proses pengeluaran. Jika suhu berubah walaupun sedikit sekalipun, kawalan dimensi kritikal bahan fotorezist akan terjejas. Jika suhu yang digunakan terlalu tinggi, maka akan timbul masalah seperti kesan buruk pada permukaan bahan fotorezist dan masalah berkaitan tepi bahan tersebut. Dalam proses pelapisan/fasa pengembangan bahan fotorezist, prestasi termal bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan aspek penting dalam proses pengeluaran.
Apa yang penting dari segi teknikal: Kami telah reka pemanas inframerah untuk sistem pelapisan/fasa pengembangan ini agar ia selaras dengan keperluan termal bahan fotorezist yang canggih. Unsur-unsur gelombang pendek dalam pemanas ini memindahkan haba secara langsung ke bahan fotorezist, sehingga proses pemanasan dapat berlangsung dengan cepat tanpa menimbulkan tekanan berlebihan pada wafer. Kesan pemanasan yang seragam dapat dicapai dengan ketepatan ±0.1°C, dan kebolehulangan proses juga dapat dipertahankan walaupun selepas ribuan kitaran.
Sistem ini bersesuaian untuk digunakan dalam bilik bersih bertaraf Class 1 hingga Class 100. Reka bentuknya memastikan tiada zarah debu yang masuk ke permukaan wafer. Tiada pelepasan gas dan badan pemanas yang tertutup memastikan tiada pencemaran semasa proses pemanasan. Dengan ini, sistem ini dapat berfungsi dengan stabil 24/7 tanpa gangguan, dan penggunaan tenaga juga dapat dikurangkan kerana pemanas dapat pulih dengan cepat antara setiap kitaran.
Mengapa ia berkesan: Dalam proses produksi, suhu perlu dikawal mengikut spesifikasi yang ditetapkan, bukan mengikut keadaan persekitaran bilik. Dengan pemanas inframerah ini,profil pemanasan tetap stabil, sehingga dimensi kritikal bahan fotorezist tetap terkawal. Proses pemanasan dapat dilakukan dengan lebih cepat tanpa menjejaskan kualiti hasil pengeluaran. Selain itu, masa penyelenggaraan juga dapat dikurangkan kerana badan pemanas kekal sejuk, sementara tenaga digunakan secara efektif pada bahan fotorezist.
Perkara yang perlu diketahui: Pemanas ini sesuai untuk digunakan pada kebanyakan platform pelapisan/fasa pengembangan, namun saiz dan cara pemasangannya berbeza bergantung pada model sistem tersebut. Pastikan ruang kosong dan laluan sistem penyejukan mencukupi sebelum memasangnya. Lakukan ujian penyesuaian ringkas selepas pemasangan.
Jika anda bekerja dalam persekitaran yang lembap, pastikan sambungan elektriknya rapat dan kering. Kami menyediakan panduan berkaitan cara mengelakkan kebocoran udara untuk memastikan antaramuka elektrik tetap kering dan stabil.