製造現場では、わずか0.5度の温度変動でも、フォトレジストの均一性が崩れてしまいます。その結果、生産ラインが停止したり、歩留まりが低下したりします。私たちは、このような温度変動が起こる前にそれを防ぐために、ウェーハの脱ガス用の赤外線ヒーターを開発しました。
重要な点 これらのヒーターは、チャック全体で±0.1℃の安定した温度分布を実現するように設計されており、急速な温度制御によってフォトレジストに与える影響を最小限に抑えます。エミッターは短波長の赤外線を使用して、迅速かつ直接的に熱エネルギーを供給します。また、チャンバーはクラス1～100のクリーンルーム基準に適合しており、焼成や脱ガスの際にも粒子の発生を完全に防ぎます。温度の再現性も非常に高く、周囲の環境条件やバッチの組成が変わっても、重要な焼成プロファイルが乱れることはありません。
リソグラフィーにおける重要性 リソグラフィーの工程において、この一貫性は、安定した焼成処理やCD値の正確な制御、そして再作業の削減につながります。迅速な赤外線反応により焼成時間が短縮され、全体的な工程時間も短縮されます。また、溶剤も完全に除去され、エッジ部の問題も抑制されます。熱が必要な時だけ供給されるため、エネルギーの消費も削減されます。このハードウェアは24時間365日稼働可能であり、予測可能なメンテナンス間隔によって、計画外の停止を防ぎます。
計画すべき事項 これらのヒーターはシステムにスムーズに統合されますが、指定された動作条件に合った安定した電圧と冷却機能が必要です。レジストや基板の特性に合わせて、昇温プロファイルを調整するための期間が必要です。一度設定が完了すれば、バッチごとの処理量が変わっても、工程の精度は維持されます。