ファブ内では、フォトレジストのベイク性能は議論の余地がなく、ナノメートル単位で測定されます。0.5℃のずれだけでも、重要な寸法制御に影響を与え、それによって多くのウェーハが損失してしまいます。そのため、ファブ内のランプには石英ガラス製のシールドが装着されており、そうしたズレが発生する前に防ぐのです。
技術的に重要な点 私たちは高純度の石英を使用してシールドを作成しています。これは、短波域および中波域の赤外線に対して安定した透過率を保ち、急激な温度変化にも耐えるからです。これにより、露光領域全体で±0.1℃という高い均一性を実現でき、ソフトベイクやハードベイクの条件をロットごとに一定に保つことができます。クラス1～100のクリーンルームでは、材料や接合部の設計により、粒子が一切発生しないようにしており、ウェーハ上の欠陥や歩留まりの悪化を防ぎます。
なぜこれがリソグラフィーに有効か リソグラフィー施設では、熱管理が極めて重要です。このシールドにより、ランプの出力が安定し、ホットスポットが発生しなくなり、プロセスの副産物もランプ内部に入らないため、同じ設定値でも同じベイクエネルギーが得られます。その結果、再作業が減少し、スクラップも少なくなり、停止時間も短縮されます。また、熱が適切な場所に留まるため、エネルギーの無駄遣いもありません。これにより、ランプの寿命が延び、交換時期も予測可能になります。
注意すべき点 設置自体は簡単ですが、位置合わせは非常に重要です。シールドは指定された位置に正確に配置されなければならず、わずかなずれでも影響が出て均一性が悪くなります。動作範囲は広いですが、ウェットクリーニング時に溶剤が直接触れるような状況には耐えられません。推奨されるドライクリーニング方法を守り、定期的なメンテナンスを行えば、性能やクリーンルームの基準を維持できます。