なぜ真空赤外線加熱が無鉛半導体製造に適しているのか
半導体製造において「無鉛化」や「グリーン化」という話が出るとき、人々は通常、化学的な側面に注目します。しかし、実際に現場で仕事をする人ならわかるでしょうが、本当の問題は熱です。
従来の対流式オーブンは非効率的です。大量の空気を加熱するために莫大なエネルギーが必要であり、正直、空気というのはほこりや微粒子がウェハーに付着する媒介に過ぎません。そこで私たちは、空気と戦わず、それを排除する方法を採用しました。だからこそ、真空赤外線ヒーターを使用するのです。
中間媒体を省略する
真空チャンバーの利点は、熱が移動するための空気が存在しない点です。伝導も対流もありません。純粋な放射作用のみです。
赤外線ランプから放出される電磁波は、基板を直接通過して材料に直接当たります。加熱要素がガスを温めてから部品を温めるのを待つ必要はありません。非常に迅速です。エネルギーが空気層を通過する必要がないため、サイクルタイムも短縮されます。
厳格な仕様を満たす
無鉛のはんだや接着剤は、温度管理が難しいものです。少しでも温度がずれると、酸化や部品の変形が起こります。これは大変な問題です。
私たちは、硬化剤が吸収するのに適した波長の赤外線を使用することで、この問題を解決しています。まるで鍵と鍵穴のようなものです。これにより、温度が上がりすぎることもありません。さらに、真空状態なので、有害な化学溶剤や安定剤も不要です。クリーンで乾燥した工程です。汚れもストレスもありません。
注意点（工学的な側面）
もちろん、これは魔法のようなものではありません。高強度の赤外線アレイは大量の熱を発生させます。
冷却装置が十分でなければ、大変なことになります。冷却回路に問題があると、その放熱によって真空シールが破損したり、チャンバー全体が変形したりします。単に機器を接続して任せるだけでは不十分です。システムがその熱を効果的に除去できるかどうかを確認する必要があります。
安定性を保つために、温度計付きの閉ループPIDコントローラーを使用することをお勧めします。これにより、ウェハーの表面温度を±1℃以内に保つことができ、安心して夜を過ごすことができます。